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Baccalauréat en systèmes informatiques et électroniques


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Équipements du laboratoire de fabrication et caractérisation de microsystèmes.

ÉquipementFonction

Aligneuse KS MJB3

Permet de faire de la lithographie optique avec une résolution inférieure à 1 micron sur des substrats de 2 pouces de diamètre ou moins.

Aligneuse OAI

Permet de faire de la lithographie optique avec une résolution inférieure à 1 micron sur des substrats de 4 pouces de diamètre ou moins. Permet aussi de faire de la lithographie par impression.

Tournette Laurell

Étalement de la photo-résine.

Imprimante de matériaux DMP-2831

Dépôt par écriture directe de polymères et semi-conducteurs organiques avec des résolutions de 10 microns.

Nanoscript de Nanoink

Système de dépôt par mouillage. Permet de faire le dépôt par écriture directe avec des résolutions de 100 nm. Il peut aussi être utilisé en mode AFM pour la caractérisation.

Évaporateur Alcatel

Système de dépôt par évaporation pour les métaux et les semiconducteurs organiques.

Banc de test optique

Système pour la mesure de l’électroluminescence

Microscope Nikon

Caractérisation optique.

Système quatre pointes

Mesures de résistivité.

Kithley 2400, 2601

Mesures électriques.

Système de déposition de Parylène SCS PDS 2010

Dépôt de couches nanométriques de parylène.

Système plasma Diener Plasma Systems

Traitement et gravure de matériaux organiques.

Profilomètre Dektak xT DXT-A

Mesure de la topographie nano et micro métrique de couches minces.

Équipements du laboratoire de fabrication et caractérisation de microsystèmes.

ÉquipementFonction

Analyseur de réseau PNA-X

Permet de mesurer les paramètres de circuits jusqu’à 50 GHZ.

Analyseur de spectre PSA

Permet de mesure le spectre électromagnétiques jusqu’à 50 GHz.

Puissance-mètre EPM

Permet de mesure la puissance d’un signal jusqu’à des fréquences de 50 GHz.

Station sous-pointes

Permet de sonder des circuits intégrés. Cet équipement est utilisé en conjonction avec l’analyseur de réseau et l’analyseur de spectre.

Photoplotter

Système d’impression de masque pour la réalisation de circuits imprimés.

Laminateur RLM419

Système utilisé pour laminer la résine sur les circuits imprimés.

Développeur ultraviolet

Système utilisé pour développer la résine.

Système de lithographie Jet 34 D

Système pour faire la gravure du circuit imprimé.

Fraiseuse pour circuits imprimés

Système permettant de réaliser du micro-usinage de circuit et de boitier.

Équipements du laboratoire de caractérisation de circuits intégrés.

ÉquipementFonction

Oscilloscope - MSO71254C

Mesures temporelle de signaux analogiques et numériques hyperfréquence (<12.5GHz).

Générateur de signaux arbitraires - AWG7082C

Génération de signaux analogiques ou numériques hyperfréquences (<16GSps).

Système PXI

Caractérisation électrique et optique de MEMS.

Émulateur de canal - ACE MX2

Émulation de canaux sans fils à multi entrées et sorties.

Plateformes de radio logiciel (USPR N210 et E210 + WARPv3)

Établissement de réseaux de communications sans-fil cognitifs et agiles.

Équipements du laboratoire de caractérisation de systèmes optiques.

ÉquipementFonction

Table optique de 8 pieds PTR12109-AL

Plateforme pour faire le montage et le test de systèmes intégrés optiques.

Micro-positionneurs Thorlabs Nanomax 300 MD630A

Système d’alignement nanométrique pour guides d’ondes optiques.

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